正性光刻胶与负性光刻胶对孔金属化的优缺点

发布网友发布时间：2022-05-24 08:29

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热心网友时间：2023-10-09 08:33

摘要你好，如果进行对比，正性光刻胶的精度会比负性光刻胶的精度更加的精确。负胶显影后图形有涨缩，负性胶*在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。但是对于同一厚度的正负光刻胶，而负型光刻胶对待湿法或者腐蚀性等方面的问题的时候会更胜一筹。这是双方的优缺点。咨询记录 · 回答于2021-09-03正性光刻胶与负性光刻胶对孔金属化的优缺点你好，如果进行对比，正性光刻胶的精度会比负性光刻胶的精度更加的精确。负胶显影后图形有涨缩，负性胶*在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。但是对于同一厚度的正负光刻胶，而负型光刻胶对待湿法或者腐蚀性等方面的问题的时候会更胜一筹。这是双方的优缺点。请问老师，薄膜工艺制作掩膜版拼版改进有什么方法建议喃？你好。使用更薄的胶层厚度可以改善负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响针孔，所以尽量选择正性胶会更好一些。线宽的用正性光刻胶,线窄的用负性光刻胶就可以的。请问老师，对于薄膜工艺来说负性光刻胶更适合用于哪一种薄膜制作喃？还有就是负性光刻胶的厚度控制在多少能保证合格率喃？你好。对于薄膜工艺来说负性光刻胶更适合用于薄膜晶体管薄膜制作。负型光刻胶应该控制在2-3微米请问老师，有写这方面技术革新的文章推荐吗？亲，你可以上知网，有很多的好文章可以看看。SHN-1型双叠氮-环化异戊橡胶类紫外负性光刻胶光刻胶是电子工业微细加工中不可缺少的一种关键材料.它的发明和应用,促进了半导体集成电路的研制和生产. 第六个五年计划期间,我国从日本等国引进...复旦学报(自然科学版) 1987年01期比如这篇文章，我觉得对光刻胶的描述就很细致而且很不错。请问老师，进口负性光刻胶su-8与国产负性光刻胶rol-7133的区别在哪喃？你好，SU-8 光刻胶在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形；它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性。SU-8在受到紫外辐射后发生交联，是一种化学扩大负性胶，可以形成台阶等结构复杂的图形；且 SU-8胶不导电，在电镀时可以直接作为绝缘体使用。