集成电路基础:ESD杂谈
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发布时间:2024-10-24 11:00
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时间:2024-11-01 01:56
本期文章,作者将为大家探讨一个对于模拟工程师而言既熟悉又陌生的概念:ESD(静电保护)。
根据Wikipedia的定义,ESD指的是两个带电物体接触时产生的瞬时电流。近期,作者在项目中遇到了对ESD要求严格的情形,常与ESD部门的同事交流学习。
在电路中进行ESD的模拟和仿真,通常使用两种模型:CDM(电荷设备模型)和HBM(人体模型)。CDM的电流和速度通常比HBM大,因为放电通路上的电阻较小。
在ESD仿真中,需要在电源上添加脉冲电压。例如,CDM情况下,电源需加入15V脉冲,上升沿和下降沿均为200ps,持续4ns。而在HBM情况下,脉冲峰值电压为6V,上升沿和下降沿为2ns,持续时间为400ns。
一位同事表示,他们计算这种二次ESD的数值是为了提供给我们的。接下来,作者提出了一个疑问:既然有二次ESD保护,那么一次ESD保护在哪里呢?
IO结构中的上下各有一个二极管就是一次ESD保护。例如,在HBM模型中,若IO加上+2000V高压,则上面的二极管D1会导通,外界高压通过VDDP迅速导走。同理,若加上-2000V高压,D2会导通,大电流从VSSP快速流向IO,而不损伤内部电路。
作者提出了一个问题:VDDP和VSSP都是为IO的二极管提供偏置的电源。那么VDDP和VSSP的IO又是怎样的呢?还能上下各放置一个二极管吗?
在VDDP和VSSP的IO电路中,应当有其他的ESD保护电路。例如,VDDP加上+2000V高压时,通过ESD二极管快速导走高压电流。而当VDDP为0,VSSP加上+2000V高压时,情况又如何呢?
作者解释道,若VSSP加上+2000V,所有IO都将处于热闹状态。这是因为所有nwell都被VDDP偏置为0V,而substrate因为VSSP变成了2000V,导致所有nwell和sub之间的寄生二极管都导通。
作者提到,还有一个“1 Ohm”原则,即从IO到ESD二极管之间的导通电阻必须小于1 Ohm,以避免寄生电阻过大,影响快速放电效果。因此,IO版图上的金属线会非常密集。
作者分享了一个ESD保护电路的例子,并解释了其工作原理。该电路类似于power down功能,由A点控制。在严峻的ESD事件发生时,内部电路会迅速关闭,以防止ESD大电流对电路造成损害。
最后,作者推荐了一篇博士论文,详细介绍了随着工艺缩小,ESD设计窗口越来越小的情况。作者还比较了0.18um和28nm IO的大小,发现虽然内部电路变小,但IO面积成为瓶颈。