真空电镀真空电镀工艺

发布网友发布时间：2024-10-14 12:20

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热心网友时间：2024-10-14 12:50

真空电镀是一种在高度真空条件下，利用金属加热、熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的工艺。

常见的金属包括铝等低熔点金属。加热金属的方法有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。在对塑料制品进行蒸镀时，为防止金属冷却时的热量使树脂变形，需要调整蒸镀时间。熔点、沸点过高的金属或合金不适合蒸镀。

将待镀金属和塑料制品置于真空室内，通过加热待镀材料使金属蒸发或升华。金属蒸汽在冷的塑料制品表面凝聚形成金属薄膜。在真空条件下，减少了蒸发材料的原子、分子与其它分子的碰撞，减少了气体活性分子与蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提高了膜层的致密度、纯度、沉积速率和附着力。通常情况下，成膜室内的压力需低于10-2Pa，对于对蒸发源、被镀制品和薄膜质量有极高要求的场合，压力需更低（10-5Pa）。

镀层的厚度范围在0.04-0.1um。太薄的镀层，反射率低；过厚的镀层，附着力差，容易脱落。当镀层厚度为0.04um时，其反射率为90%。