湖南大学教授为何能上福布斯?
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发布时间：2024-10-01 05:52
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时间：2024-11-16 19:51
2018年8月2日，福布斯中国正式公布2018年中国“30位30岁以下精英”榜单(简称福布斯中国30 Under 30)。本榜单首次涵盖了20个不同领域各30位30岁以下精英，共有600位青年才俊入选。
今年福布斯中国评选的20个领域分别是：娱乐、财务和金融、教育、风险投资、科学、零售与电商、旅游、媒体、能源环保、企业科技、社会企业、市场营销和广告、食品饮料与农业、体育、消费科技、医药健康、艺术与时尚、音乐、游戏、制造工业。
今年的入围条件是1988 年1 月1 日以后出生( 对入选者年龄的计算也以1 月1 日为界)。这些青年才俊包括创业家、杰出的经理人和演艺界、体育、科技界及文化界人士。
本年度福布斯中国发布的30岁以下精英榜中，科技和教育领域共有60位青年学者当选。科技领域中，当选青年学者就包括湖南大学的刘渊教授。
刘渊，湖南大学教授、博士生导师。
主要从事半导体微纳电子器件设计、制造、加工、测量与小规模逻辑电路集成的工作。迄今共发表SCI论文40余篇，其中影响因子大于10的论文30篇。文章总引用为5000余次，其中14篇被选为SCI高引论文。
教育背景
○ 2010年-2015年
美国加州大学洛杉矶分校，材料科学工程，博士
○ 2006年-2010年
浙江大学，电子信息工程，学士
工作履历
○ 2017年-至今
湖南大学，物理与微电子科学学院，教授
○ 2015年-2017年
美国加州大学洛杉矶分校，材料科学工程，博士后
研究领域
1.基于低维（0维，1维，2维）材料的新型半导体电子器件与光学器件。
2.基于二维-三维材料异质集成的高性能微电子器件。
3.薄膜晶体管及显示器件。
4.柔性及可穿戴电子器件及电路集成。
奖励与荣誉
千人计划青年项目(信息科学)，中组部(2018)
Postdocoral Research Award, UCLA(2018)
岳麓学者，湖南大学(2017)
Dissertation Year Fellowship, UCLA(2014)
其他成就：参与发表一篇Nature
5月17日，Nature在线发表了加州大学洛杉矶分校的段镶锋教授、黄昱教授（共同通讯作者）团队题为“Approaching the Schottky–Mott limit in van der Waals metal–semiconctor junctions”的文章，研究报道了范德瓦尔斯金属半导体结的创建，金属薄膜被层压到二维半导体上而没有直接的化学键合，形成基本上不受化学无序和固定费米能级约束的界面。
界面修饰一直被认为最有效的降低界面损失、提高器件性能的手段，而段镶锋教授科研团队另辟蹊径，通过转移原子级平整的金属电极的方法，避免化学紊乱、界面费米能级被钉住的现象，近乎完美的接近肖特基-莫特极限势垒极限高度，实现了电学性能的大幅提升。
文章的第一完成单位是加州大学洛杉矶分校，湖南大学是第二完成单位。第一作者是湖南大学刘渊教授（中组部青年千人），通讯作者是UCLA段镶锋、黄昱教授。
确实是毫无争议的。
