发布网友 发布时间:2022-05-07 11:31
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热心网友 时间:2022-07-10 20:21
光刻机涉及到的知识有:光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。
光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的*,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的*。
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
扩展资料:
光刻机的分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。
1、手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;
2、半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;
3、自动: 指的是 从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
热心网友 时间:2022-07-10 20:21
光刻机属于一个各学科集成的产品,泛泛而言,设计到光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识