详解C4D展UV和UV贴图的编辑与使用
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发布时间：2024-10-11 04:18
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时间：2024-11-23 20:46
详解C4D的UV展平与贴图编辑使用步骤
在C4D高级应用中，贴图处理是关键环节，如包装设计和模型细节。展UV是实现快速、准确贴图的关键步骤。UV，即UVW的简称，负责定义模型纹理的二维坐标系统，与三维空间的XYZ坐标相对应，它决定了每个模型表面在图片上的位置。
展UV，即对模型进行UV拆解，是将三维模型的表面平铺在二维贴图上的过程。C4D提供了多种方式，如自带的UV编辑模式。以化妆品包装为例，其步骤包括：首先，进入编辑模式，左侧显示模型视图，右侧UV视图；清除原有UV；选择边模式，设置切割线；使用松弛UV工具进行展平，优化贴图映射；调整UV角度以方便贴图；新建纹理，创建UV网格层并导出；在Photoshop中根据UV网格进行贴图；最后，将贴图应用到材质球上，调整光源和场景，完成渲染。
通过以上步骤，模型的UV展平和贴图编辑得以完成，呈现出理想的效果。掌握这些技巧，将大大提高C4D的贴图工作效率。
