350nm!俄罗斯光刻机震撼问世!

发布网友发布时间：2024-10-08 03:09

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热心网友时间：2024-12-02 02:16

俄罗斯光刻机震撼问世，首台设备已经制造完成并进入测试阶段。该设备能确保生产350nm的芯片，尽管这一技术在现今看来相对落后，但在汽车、能源和电信等众多行业中仍具有应用价值。这标志着俄罗斯在自主发展半导体技术上取得了关键突破，有望减少对国外技术的依赖，增强国内产业的自主性和竞争力。俄罗斯已规划分步骤实现半导体技术的本土化，目标包括到2026年实现65nm芯片节点工艺，2027年实现28nm本土芯片制造，到2030年实现14nm国产芯片制造。

值得一提的是，俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构的计划更加激进。应用物理研究所预计在2028年开发出能够生产7纳米芯片的光刻机，甚至有潜力超越ASML同类产品。俄罗斯联邦工业和贸易部副*瓦西里-什帕克表示，2026年将获得130纳米的国产光刻机。计划下一步开发90纳米光刻机，并将持续向更先进的技术领域迈进。俄罗斯已启动了全面的电子工程项目，并有望实现从130纳米到更先进的制程。

关于首台国产130纳米光刻机的原型，有报道称其可能在2026年前问世。值得注意的是，世界上首次生产130纳米芯片是在2001年。350-65纳米制程的芯片广泛应用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等领域。来源：国芯网。