什么是氩气溅射薄膜工艺技术?
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发布时间:2024-10-03 04:49
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时间:2024-11-09 01:47
1. 在溅射沉积腔体中充入惰性氩气,并使其电离成为等离子体。
2. 施加负电压在靶材上,将其作为阴极。正电位的氩离子会被吸引到靶材。
3. 高速的氩离子轰击靶材表面,将靶材表面原子击出。
4. 被击出的靶材原子穿过等离子体,沉积到基板材料上形成薄膜。
5. 通过控制氩气流量、电压、靶材材质等参数,可以精确控制沉积过程。
6. 溅射原理是惰性氩离子具有足够动能来溅出靶材表面的物质原子。
7. 这样可以在基体上得到与靶材成分相同的溅射沉积薄膜。
8. 氩溅射广泛应用于工业化大规模沉积各种材料的硬质薄膜。