磁控溅射源装置常用都有哪些?
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发布时间：2022-04-25 00:00
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时间：2023-10-16 03:02
通过磁场提高溅射率的基本原理由Penning在60多年前发明,后来由Kay和其他人发展起来,并研制出溅射*和柱式磁场源.1979年Chapin引入了平面磁控结构.
磁控溅射源装置
平面型
1.矩形:应用广泛,尤其适用于大面积平板的连续型镀膜;镀膜均匀性,产品的一致性较好.
2.圆形:只适合于做小型的磁控源,制靶简单,适合科研中应用.
电磁铁
电流的磁效应:如果一条直的金属导线通过电流,那么在导线周围的空间将产生圆形磁场;导线中流过的电流越大,产生的磁场越强.
圆柱形
适合镀覆尺寸变化大,形状复杂的工件.
1.水嘴组件 2.旋转机械 3.靶座 4.靶材 5.条状永磁体 6.轭铁 7.块状永磁体 8.紧固螺母 9.密封圈 10.螺帽倒锥形靶材靶材利用率高;*体结构紧凑,体积较小.
