磁控溅射为什么具有"低温","高速"两大特点
发布网友
发布时间:2022-04-25 00:00
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热心网友
时间:2023-10-16 03:02
这跟磁控溅射的“磁控”有关。
磁控就是在二级溅射的基础上,在靶材周围形成磁场,在电场和磁场的作用下,束缚住电子,让电子做螺旋运动。电子是维持放电的重要因素。电子寿命增加,数量增多,不需要太高的功率就能完成自维持放电。这就是高速的原因,同样,不需要高能耗溅射的结果导致溅射过程中,内部温度不高,基本维持在几十摄氏度左右。
热心网友
时间:2023-10-16 03:03
磁控溅射低温快速沉积技术,制备的薄膜层致密、纯度高、强度高广泛应用于薄膜制造,具有薄膜附着力、厚度均匀、低温、高速等特点。