多晶硅（硅单质的一种）被称为“微电子大厦的基石”，制备中副产物以SiCl4为主，它环境污染很大，能遇水

发布网友发布时间：2022-04-30 13:53

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热心网友时间：2023-10-05 03:14

（1）用H₂还原SiCl₄蒸气可制取纯度很高的硅，当反应中有1mol电子转移时吸收59KJ热量，转移4mol电子吸收热量236KJ，反应的热化学方程式：SiCl₄（s）+2H₂（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ/mol，
故答案为：SiCl₄（s）+2H₂（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ/mol；
（2）氯化硅水解生成原硅酸和氯化氢，水解方程式为：SiCl₄+4H₂O=H₄SiO₄↓+4HCl，故答案为：SiCl₄+4H₂O=H₄SiO₄↓+4HCl；
（3）pH=3.4时，三价铁离子完全生成沉淀，使Fe³⁺完全沉淀；盐酸和碳酸钡反应生成氯化钡和二氧化碳、水，加钡矿粉并调节pH=7的作用是使BaCO₃转化为BaCl₂，同时使使Fe³⁺完全沉淀，
故答案为：使BaCO₃转化为BaCl₂；使Fe³⁺完全沉淀生成氢氧化铁沉淀；
（4）pH=7溶液中铁离子全部沉淀，c（OH-）=10^-7mol/L，K_sp[Fe（OH）₃]=c（Fe³⁺）c³（OH^-）=2.2×10^-38，c（Fe³⁺）=

2.2×10?38

(10?7)3

=2.2×10^-17mo/L；
故答案为：2.2×10^-17mo/L；
（5）当pH=3.4时，铁离子完全生成沉淀，当pH=12.4时，镁离子完全沉淀生成氢氧化镁，Mg（OH）₂，所以当pH=12.5时，滤渣A的成分是氢氧化镁，反应的离子方程式为：Mg²⁺+2OH^-=Mg（OH）₂↓，故答案为：Mg²⁺+2OH^-=Mg（OH）₂↓．