发布网友 发布时间:2023-05-16 11:21
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热心网友 时间:2024-12-02 14:51
光刻焦深和分辨率之间的关系是成反比的。光刻中,分辨率被定义为清晰分辨出硅片上间隔很近的特征图形对的能力。分HAT2016R辨率对于任何光学系统都是一个重要的参数。焦点周围有个范围,在这个范围内图像连续地保持清晰,这个范围被称为焦深或DOF(DcpthofFoctls)。光刻工艺中,焦深应穿越光刻胶层上下表面,其表达式如下:D°F=×NA`,焦深方程式的含义:如果分辨率提高了,焦深就会减小。然而焦深的减小严重缩减了光学系统的工艺宽容度。