发布网友 发布时间:2023-05-04 13:18
共3个回答
热心网友 时间:2023-10-29 17:24
我的个人理解:热心网友 时间:2023-10-29 17:24
靶首先要轰好,轰好后才开始正式镀膜)就是把表面的脏东西及氧化物,杂质等离子轰击干净,氩气太少会跳靶,如果做的氧化物,先充氩气,再充氧气,压强不能太高否则波动很大,压强如果不稳,可能是你的基片放气大,也有可能是靶氧化物没有处理干净,也不排除布气不均匀,电流不能太大,容易跳靶,如果电压太高就多充点氩气,电压低少充电,可以和我交流(QQ:286941805)热心网友 时间:2023-10-29 17:24
其实也就是电压的大小而已!追问不同材料稳弧能力不同应如何理解?