IGZO技术比较a-SiO2的技术优势有哪些?
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发布时间：2022-10-09 22:45
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时间：2024-07-30 11:20
是金属氧化物(Oxide)面板技术的一种。
低迷的液晶领域制定出新的增长战略。
重点放在了有价格优势、高画质、低耗电的液晶显示屏技术“IGZO”上，
并在笔记本电脑液晶显示设备方面增加投资。
但实验结果表明:Ta2O5和SiO2具有较快的成膜速率,
而Al2O3的成膜速率最慢;
6种溅射所成薄膜均为非晶结构且经过高温处理后仍能保持非晶状态;
Al2O3和TiO2薄膜的表面粗超度较低;
TiO2薄膜的在近紫外部分的光透过率较低,
这非常有利于a-IGZOTFT的光稳定性.
从表面形貌和溅射速率两方面实验结果进行比对分析,
我们发现溅射速率慢的材料通常其薄膜表面也会比较平滑,
生成的薄膜也就可能会更致密,可能更适合作为a-IGZO。
