什么是光刻技术？

光刻技术就是在需要刻蚀的表面涂抹光刻胶，干燥后把图形底片覆盖其上，有光源照射，受光部分即可用药水洗掉胶膜，没有胶膜的部分即可用浓酸浓碱腐蚀表面。腐蚀好以后再洗掉其余的光刻胶。现在为了得到细微的光刻线条使用紫外线甚至X射线作为光源。

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。是指在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。并不是单纯的激光，其曝光系统基本上使用的是复杂的紫外光源...

光刻工艺是利用类似照相制版的原理，在半导体晶片表面的掩膜层上面刻蚀精细图形的表面加工技术。也就是使用可见光和紫外光线把电路图案投影“印刷”到覆有感光材料的硅晶片表面，再经过蚀刻工艺去除无用部分，所剩就是电路本身了。光刻工艺的流程中有制版、硅片氧化、涂胶、曝光、显影、腐蚀、去胶等。光刻是...

回购光刻机指的是中国芯片企业要求ASML回购已经购买的700台光刻机。光刻机，又名掩模对准曝光机、曝光系统等，是制造芯片的核心装备。光刻机采用类似照片冲印的技术，能够把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。ASML是全球领先的半导体设备制造商，其先进的光刻机技术被广泛应用于芯片制造过程...

光刻机，也称作掩模对准曝光机或曝光系统，是制造芯片的核心设备。它利用类似于照片冲印的技术，通过光线的曝光，将掩膜版上的精细图形转移到硅片上。ASML是全球顶尖的半导体设备制造商，其先进的光刻机技术在芯片制造过程中得到广泛应用。2018年，由于美国的限制，ASML被要求停止向中国出售光刻机，这导致...

光刻是制造半导体器件和集成电路的关键工艺之一。自20世纪60年代起，这项技术通过使用带有图形图案的掩模覆盖在半导体芯片表面，从而形成半导体器件的不同工作区域。随着集成电路中器件数量的增加，对单个器件尺寸及其间距的要求也随之减小，因此常常以光刻技术能够分辨的最小线条宽度来衡量集成电路的工艺水平。国...

光雕技术，或者光刻技术是微电子技术的一支，它是利用激光在一片高纯度硅或锗晶片上通过烧蚀，掺杂，扩散并制作出所需的晶体管集成电路，现在光刻技术不仅能在一片单晶硅上制作出数千万数量级的二级管，三级管，场效应管，也能通过结电容制作出微电容，只是电感的制作还有困难。光刻技术是微电子技术不可...

揭秘极紫外光刻(EUV)：革新微电子制造的秘密武器在微电子制造的精密战场上，光刻机如同精密的艺术大师，而EUV (极紫外光刻) 技术则扮演着决定性角色。从UV光刻机的革新，如DUV (深紫外) 的ArF技术，再到134nm的分辨率瓶颈，EUV的13.5nm光源技术应运而生，引领着半导体行业向更小的制程迈进。ASML，...

一台小小的光刻机上面就有十几万的小零件，而且为了让光刻机可以领先，所有的零部件都是采用了全世界最领先的技术，所以说光刻机从插头、配件等都是选用了其他国家的顶尖技术，这相当于全世界的技术融合在一起才可以制造出顶级的光刻机，而且ASML公司背后有台积电、三星以及英特尔这样顶尖的企业投资支持...

光刻技术的原理：集成电路制造中利用光学、化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2至3个数量级，已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用...