发布网友 发布时间:2022-06-26 20:27
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热心网友 时间:2024-12-12 09:05
摘要1 制备二氧化硅部分1. 1 主要原料、设备和仪器主要原料:工业硅酸钠 , ρ=1.384 g/cm3;工业硫酸;乳化剂;氨水;合成蜡。咨询记录 · 回答于2021-09-22工业上生产二氧化硅原理和工艺流程???1 制备二氧化硅部分1. 1 主要原料、设备和仪器主要原料:工业硅酸钠 , ρ=1.384 g/cm3;工业硫酸;乳化剂;氨水;合成蜡。主要设备和仪器:搪瓷( 带搅拌,夹套加热 )釜 ;高速搅拌机;喷雾干燥机;气流粉碎机;压滤机。1. 2 蜡乳化液配制将合成蜡和适当乳化剂、水按一定比例高速分散 50~60 min,制备稳定的乳化液。1. 3 SiO2消光剂的制备 在搪瓷釜内加入一定量的稀硅酸钠溶液和蜡乳化液 ,搅拌条件下 ,以一定速度加入稀硫酸 ,釜内出现凝胶后将其打碎 ,继续加酸至中性 ,搅拌 15 min至反应完全。随后将物料迅速升温 ,以稀硫酸或氨水调节溶液的 pH,在 85~95 ℃保温老化一定时间。将沉淀物过滤洗涤至中性 ,把水洗后的凝胶加适量去离子水至固含量 10%,高速搅拌30~40 min,用喷雾干燥机干燥。最后 ,控制气流粉碎机的工艺条件得到平均粒径 4~8 um的 SiO2消光剂。以上为本次问题解答。