溅镀工艺可以分为哪几种不同的形式?
发布网友
发布时间:2022-04-23 15:30
我来回答
共3个回答
热心网友
时间:2023-10-02 02:28
溅镀,是真空溅射镀膜的简称,是一种物理镀膜的方法.真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构层状生长)形成薄膜。
热心网友
时间:2023-10-02 02:28
溅镀是通过离子碰撞而获得薄膜的一种工艺,主要分为两类:阴极溅镀和射频溅镀。阴极溅镀一般用于溅镀导体如铝,银或半导体如硅。射频溅镀一般用于溅镀非导体如ZnS一SiO2RW格式用镀层)。溅镀的原理,主要利用辉光放电将氩气离子撞击靶材表面;靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。同时用强力磁铁将电子呈螺旋状运动,加速靶材周围的氩气离子化,使得氩气离子对阴极靶材的撞击机率增加,形成雪崩式的状态,以此提高溅镀速率。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜好。
热心网友
时间:2023-10-02 02:29
真空溅镀的镀层可通过调节电流大小和时间来垒加,但不能太厚,太厚了表面原子垒加会出现小小的空洞间隙。厚度范围0.2~2um。真空溅镀设备:PAGE03真空镀膜的优缺点:优点:PAGE011、表面有较好的金属质感且细腻。颜色较水电镀可解决七彩色的问题如魔幻蓝、闪银灯;水电镀颜色较单调,一般只有亮银、亚银等少数几种。基材材质选用范围广,如PC、ABS、PMMA,(水镀只能选择ABS、ABS+PC)。镀靶材受熔点*,太高熔点的不易采用。真空蒸镀不过UV油,其附着力较差,要保证真空蒸镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理。缺点:通过镀铟锡可做成半透的效果,灯光可以从产品中发出来。不污染环境。PAGE01真空镀膜与水电镀的对比相关问题:PAGE01因为在真空蒸镀完之后还要喷一层UV光油面漆,这层面漆上可以做不同的颜色。蒸镀通过镀一些硅化物可以做成七彩色,但比较薄,近看可以,远看不明显,;溅射通过CSi、CO、Si等物质进行反应镀可镀出七彩色,或者通过低温多层不同颜色的镀膜来呈现多彩。而水电镀的一般为金属本色,要呈现其他颜色的需要涂UV面漆然后UV照射。为什么真空镀膜可以做成不同的颜色,还有七彩色?真空蒸镀和真空溅镀的镀膜的吸附性差异的原因?蒸镀是附着,溅射是正负电极的强烈吸附,所以溅射的吸附更均匀密度也更大硬度也大,价格溅射比蒸镀要贵10%——20%。
溅镀工艺可以分为哪几种不同的形式?
主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构层状生长)形成薄膜。
请懂得金属工艺的大神帮忙解决问题啊 这是蚀刻工艺嘛?
根据您提供的信息,无法完全确定蚀刻工艺的类型。请提供更多详细信息,我会尽力回答您的问题。蚀刻工艺通常被描述为将材料或元件暴露在腐蚀性介质中,使其受到化学或电化学作用而被削减或去除。蚀刻工艺可以应用于各种材料和元件,包括金属、半导体、陶瓷和玻璃等。蚀刻过程可以采用多种技术,如化学蚀刻、电化学蚀刻、离子束蚀刻等。根据提供的信息,材料似乎是金属,并且提到了“电子薄件精密金属蚀刻产品的加工”,这可能意味着蚀刻工艺涉及到金属电子器件的制造。但是,仅仅根据这些信息,我们不能完全确定该蚀刻过程使用的具体蚀刻技术和材料类…是的,的确属于蚀刻工艺。目前来讲,蚀刻工艺主要有两大类,一是化学蚀刻,就是利用各类化学药水直接跟金属发生反应,达到蚀刻的目的。二是电解蚀刻,以上视频截图中的内容就属于此类蚀刻。蚀刻的原理是将准备蚀刻的工件接在电解电源的阳极,负...
溅镀原理
溅镀,一种高速低温磁控溅镀技术,是在1×10-3Torr(约1.3×10-3Pa)真空环境中进行的。工艺过程中,惰性气体氩气被注入,阳极(塑料基材)和阴极(金属靶材)之间通过高压直流电连接。当电场激发惰性气体时,会产生等离子体,金属靶材的原子被等离子体轰出并沉积在阳极表面。溅镀的核心原理是,电子以...
溅镀的原理
溅镀,通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法.该工艺要求真空度在1×10-3Torr左右,即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar),并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电,由于辉光放电(glow discharge)产生的电子激发惰性气体,产生等离子体,等离子体将金属靶材的原子轰...
通常水镀 真空镀 溅镀 涂镀区别
通常,水镀、真空镀、溅镀和涂镀是四种不同的表面处理技术,各有其独特之处和应用场景。首先,物理气相沉积(PVD)是通过物理过程将原子或分子转移到基材表面,提升材料性能,如增强耐磨性和防腐性。其主要方法包括真空蒸镀、溅镀(如磁控溅镀)和离子镀(如磁控溅射离子镀、反应离子镀等),其中PVD技术...
电镀分为哪几类
电镀分为挂镀、滚镀、连续镀和刷镀等方式,主要与待镀件的尺寸和批量有关。挂镀适用于一般尺寸的制品,如汽车的保险杠,自行车的车把等。滚镀适用于小件,紧固件、垫圈、销子等。连续镀适用于成批生产的线材和带材。刷镀适用于局部镀或修复。电镀液有酸性的、碱性的和加有铬合剂的酸性及中性溶液,无...
有人知道电镀UV水镀和真空镀有什么区别?
真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊; 工艺有蒸镀、溅镀、枪色等。3、两种工艺的区别:水电镀因工艺较简单,从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻,从而被广泛应用。水电镀有个弱点,只能镀ABS料和ABS+PC料(此料镀的效果也不是很理想)。而ABS料耐温只有80℃,这使得它的应用...
佛像工艺品上的像镜面一样的金漆是怎么喷的?
真空电镀可以分为一般真空电镀、UV真空电镀和特殊真空电镀,包括蒸镀、溅镀、枪色等工艺。例如,PC料能耐受130度的高温,只有结合“真空电镀+UV油光固化”才能满足这一要求。而一般的水电镀则无法对PC料进行电镀。真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,然后在塑料表面形成金属薄膜。常用...
圆晶的制造工艺
晶圆制造工艺 溅镀第一层金属利用光刻技术留出金属接触洞,溅镀钛+ 氮化钛+ 铝+ 氮化钛等多层金属膜。离子刻蚀出布线结构,并用PECVD 在上面沉积一层SiO2 介电质。并用SOG (spin on glass) 使表面平坦,加热去除SOG 中的溶剂。然后再沉积一层介电质,为沉积第二层金属作准备。(1) 薄膜的沉积方法根据其用途的...
真空镀膜和光学镀膜有什么区别
1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或...
微波天线金属化(天线电路化镀)的工艺选择
1. 可以用激光活化后金属镀LAP,激光镭雕后,表面用药剂进行活化处理,使得镭雕表面存在化镀的活化中心,然后通过化镀实现金属化,如果是电路较少的话,用LAP有明显优势,是个加法工艺,LAP为tontop的技术解决方案,北斗天线和手机天线都有在用,原理上应该是一样的。而且这种结合是化学键的结合,附着力...