光刻版不小心用手碰到了怎么清洗
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发布时间:2022-04-28 18:34
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时间:2022-06-22 20:34
光刻版不小心用手碰到了清洗方法:对于光刻胶及其他有机污染物,比较常见的方法是通过有机溶剂将其溶解的方法将其去除,例如利用丙酮浸泡光刻版,在浸泡的同时可以超声提高浸泡效果。
对于比较干净的光刻板,浸泡基本就能将有机污染物去除干净。对于光刻胶较多的光刻板,浸泡只能将光刻胶泡软,还需要用无尘布或无尘棉蘸丙酮轻轻擦洗,或在光刻板清洗设备中采用毛刷刷洗,通过外力将顽固的光刻胶去除掉。
毛刷刷洗基本原理
光刻板匀速旋转,喷嘴向光刻板表面喷洒丙酮等化学液,使得光刻胶由于溶解而变得松软,然后毛刷接触到光刻板表面,光刻板旋转时与毛刷产生相对运动,辅以喷嘴喷出的化学液,对光刻板表面起到刷洗作用。刷洗完成后,通常采用高压DI水冲洗光刻板,通过高压微细水滴的冲击力去除仍然吸附在光刻板表面的剩余光刻胶。
由于零成像缺陷是可以实现的, 工厂内生产的光刻板需要经常清洗。为了保证光刻板洁净,必须定期对光刻板进行清洗,而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。
光刻版不小心用手碰到了怎么清洗
光刻版不小心用手碰到了清洗方法:对于光刻胶及其他有机污染物,比较常见的方法是通过有机溶剂将其溶解的方法将其去除,例如利用丙酮浸泡光刻版,在浸泡的同时可以超声提高浸泡效果。对于比较干净的光刻板,浸泡基本就能将有机污染物去除干净。对于光刻胶较多的光刻板,浸泡只能将光刻胶泡软,还需要用无尘布...
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光刻机是什么?
得到刻在硅片上的电路图(即芯片)。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程,现在先进的芯片有30多层。
请问哪位高手,简单的图象编辑器怎么编辑透明或水银文字上去?
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